Veřená zakázka

Microwave plasma CVD deposition system / Mikrovlnný plazmatický depoziční systém s fokusovanou plasmou

Číslo ve věstníku:
Z2019-042803
Druh zadávacího řízení:
Otevřené řízení
Lokalita:
Celá Česká republika
Kategorie:
Výzkum a vývojTechnologie, stroje, přístroje a elektronika
Technologie, stroje, přístroje a elektronika ->  Technologie, stroje a přístroje
CPV kódy:
38000000-5 - Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel)
Popis:

The subject matter of this public contract is supply (acquisition) of a Microwave plasma CVD deposition system with focused plasma. The system must be fully operational and complete and will be used for microwave plasma enhanced chemical vapour deposition of diamond thin films on planar substrates in diameter up to 4 inch from hydrogen rich plasma. The tender documents are available for download at the contracting authority's profile https://www.e-zakazky.cz/profil-zadavatele/74e987e1-b4a1-4571-b8b6-2cd93fe6f932 .

warning
Upozornění: pro zobrazení zadávacích podmínek se registrujte ZDARMA nebo se přihlašte.

    Termíny:

  • calendar_today 
    Datum zahájení zakázky:
    29.11.2019
  • calendar_today 
    Lhůta pro podání nabídek do:
    02.01.2020