Veřená zakázka

Mapovací elipsometr/Mapping ellipsometer

Předmětem této veřejné zakázky je dodávka mapovacího elipsometru se schopností mapování, automatického justování vzorku a jednoduché analýzu pro měření struktur na deponovaných/ leptaných površích s velkým rozlišením. Na vrstvách zvolených materiálů přístroj změří mapu tlouštěk, v případě známého substrátu i tlouštěk nejvyšší vrstvy z multivrstvy. Účelem zařízení je vytvořit podrobnou mapu tlouštěk vrstev v procesu litografie. Důležitá je rychlost mapování (probíhá bod po bodě) a snadnost zpracování výsledků. Vzorek se musí najustovat automaticky v každém měřeném bodě. Zařízení bude umístěno v nanofabrikační laboratoři splňující podmínky čistých prostor ISO5; zařízení musí být plně kompatibilní s těmito podmínkami. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace. The subject of this public contract is the supply of a mapping ellipsometer with mapping capability, automatic sample judging and simple analysis for measuring structures on deposited/etched surfaces with high resolution. The instrument will measure a thickness map on layers of selected materials, and in the case of a known substrate, the thicknesses of the uppermost layer of the multilayer. The purpose of the device is to produce a detailed map of layer thicknesses in the lithography process. The speed of the mapping (it is done point by point) and the ease of processing the results are important. The sample has to be reset automatically at each measured point. The equipment will be housed in a nanofabrication laboratory meeting ISO5 cleanroom conditions; the equipment must be fully compatible with these conditions. The subject of the public contract is defined in detail by technical, business and other contractual terms and conditions included in the tender documentation.

Termíny:

• calendar_today 

  Datum zahájení zakázky:

  16.07.2024
• calendar_today 

  Lhůta pro podání nabídek do:

  22.08.2024