Veřená zakázka

Leptací a depoziční zařízení projektu CEITEC

Číslo ve věstníku:
488214
Druh zadávacího řízení:
Otevřené řízení
Lokalita:
Jihomoravský kraj
Kategorie:
Technologie, stroje, přístroje a elektronika
Technologie, stroje, přístroje a elektronika ->  Technologie, stroje a přístroje
CPV kódy:
22520000-1 - Zařízení pro suché leptání,
38000000-5 - Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel),
42900000-5 - Různá strojní zařízení pro všeobecné účely a speciální strojní zařízení,
42940000-7 - Zařízení pro tepelnou úpravu materiálů
Popis:

Předmětem zakázky je dodávka souboru leptacích a depozičních zařízení pro sdílenou laboratoř CEITEC (Central European Institute of Technology) - Příprava a charakterizace nanostruktur. Zakázka je rozdělena na dvě části: Předmětem části 1 je dodávka následujících zařízení: - Vakuový systém pro depozici vrstev na bázi křemíku (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC) - Vakuový systém pro leptaní kovů, křemíku, oxidu křemíku a depozici uhlíkových vrstev - Vakuový systém pro hluboké leptaní křemíku - Vakuový systém pro leptaní kovů, III-V materiálů (GaN,InP) Předmětem části 2 je dodávka zařízení: - Vakuový systém pro depozici materiálů pomocí PECVD za vysoké teploty. Kompletní popis předmětu zakázky a jejích částí je uveden v zadávací dokumentaci. The subject matter of the contract is the supply of complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility - Nanofabrication and Nanocharacterization.supply of complex of etching and deposition devices for CEITEC (Central European Institute of Technology) core facility - Nanofabrication and Nanocharacterization. Public contract is subdivided into two lots. The subject matter of the lot No.1 of the contract is supply of complex of the following devices: - Vacuum system for deposition of thin films on the silicon based (a-Si,SiO2,Si3N4,SiC) - Vacuum system for reactive ion etching of silicon, silicon oxide and deposition of carbon layers - Vacuum system for deep reactive ion etching of silicon - Vacuum system for reactive ion etching of metals, III-V materials (GaN,InP) The subject matter of the lot No.2 of the contract is supply of following device: Vacuum system for deposition of materials using PECVD at high temperature For more information, please see the tender documentation.

warning
Upozornění: pro zobrazení zadávacích podmínek se registrujte ZDARMA nebo se přihlašte.

    Termíny:

  • calendar_today 
    Datum zahájení zakázky:
    15.09.2014
  • calendar_today 
    Lhůta pro podání nabídek do:
    10.11.2014
  • calendar_today 
    Termín otevírání obálek:
    10.11.2014