Veřená zakázka
Atomic Layer Deposition (Systém pro depozici atomárních vrstev)
Technologie, stroje, přístroje a elektronika -> Technologie, stroje a přístroje
Dodávka systému ALD pro účely projektu Fyzika pevných látek pro 21. století, kde bude využit jako „společný přístroj“ pro všechny výzkumné programy projektu. ALD bude sloužit jako modulární depoziční systém pro kontrolovanou depozici atomárně tenkých vrstev pro výzkum a vývoj nových materiálů a součástek v nanoelektronice, optoelektronice, optice a biomedicíně. Mezi hlavní deponované materiály v ALD budou patřit Al2O3, HfO2, ZnO, TiO2, SiO2 a Si3N4. Zadávací dokumentace včetně všech příloh je umístěna na profilu zadavatele https://www.e-zakazky.cz/profil-zadavatele/74e987e1-b4a1-4571-b8b6-2cd93fe6f932 Na výše uvedeném profilu zadavatele budou uveřejňovány i případné veškeré další informace k zadávacímu řízení.
-
calendar_todayDatum zahájení zakázky:01.08.2019
-
calendar_todayLhůta pro podání nabídek do:04.09.2019