Veřená zakázka

Bezmaskový laserový litografický systém/Direct-Write Optical Lithograph

Předmětem této veřejné zakázky je moderní bezmaskový laserový litografický systém určený pro přímý laserový zápis jemných struktur na různé typy a velikosti substrátů. Jedná se o specializované laboratorní zařízení, které umožňuje vytváření přesně definovaných mikro- a nanostruktur bez nutnosti použití klasických fotolitografických masek. Podrobně je předmět veřejné zakázky vymezen technickými, obchodními a jinými smluvními podmínkami, které jsou součástí zadávací dokumentace. --------------------- The subject of this public contract is a modern maskless laser lithography system intended for direct laser writing of fine structures on various types and sizes of substrates. This is a specialized laboratory device that enables the fabrication of precisely defined micro- and nanostructures without the need for conventional photolithographic masks. The subject of the public contract is defined in detail by technical, business and other contractual terms and conditions included in the tender documentation.

Termíny:

• calendar_today 

  Datum zahájení zakázky:

  18.05.2026
• calendar_today 

  Lhůta pro podání nabídek do:

  15.06.2026